发明公开
- 专利标题: 磁头及磁记录装置
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申请号: CN202110210749.9申请日: 2021-02-25
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公开(公告)号: CN113763994A公开(公告)日: 2021-12-07
- 发明人: 岩崎仁志 , 成田直幸 , 首藤浩文 , 高岸雅幸 , 永泽鹤美
- 申请人: 株式会社东芝 , 东芝电子元件及存储装置株式会社
- 申请人地址: 日本东京都;
- 专利权人: 株式会社东芝,东芝电子元件及存储装置株式会社
- 当前专利权人: 株式会社东芝,东芝电子元件及存储装置株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都;
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 张谟煜; 段承恩
- 优先权: 2020-095415 20200601 JP
- 主分类号: G11B5/187
- IPC分类号: G11B5/187 ; G11B5/11
摘要:
本公开提供能够实现稳定的动作的磁头及磁记录装置。根据实施方式,磁头包括第1磁极、第2磁极及设置于所述第1磁极与所述第2磁极之间的层叠体。所述层叠体包括第1磁性构件、设置于所述第1磁性构件与所述第2磁极之间的第2磁性构件、设置于所述第1磁性构件与所述第2磁性构件之间且包括Cu的第1层及设置于所述第2磁性构件与所述第2磁极之间且包括Cu的第2层。所述第1磁性构件包括多个第1磁性区域和第1非磁性区域。所述多个第1磁性区域包括作为从由Fe、Co及Ni构成的群选择出的至少1个的第1元素。所述第1非磁性区域包括作为从由Mn、Cr、V、Ti及Sc构成的群选择出的至少1个的第2元素。
公开/授权文献
- CN113763994B 磁头及磁记录装置 公开/授权日:2023-04-11
IPC分类: