本发明涉及一种新型的Parylene真空镀膜装置，包括一体化蒸发裂解室、内置裂解加热器、蒸发区温控器、裂解区保护温控器、镀膜室、低温冷阱系统、真空系统和测控系统等，其中一体化蒸发裂解室分为蒸发区和裂解区，蒸发区和裂解区的外部分别设有蒸发区温控器和裂解区保护温控器；内置裂解加热器的加热部位于一体化蒸发裂解室内，且加热部包括与蒸发区对应的蒸发加热区和与裂解区对应的裂解加热区；一体化蒸发裂解室与镀膜室、低温冷阱系统、真空系统依次连接，测控系统控制一体化蒸发裂解室、镀膜室、低温冷阱系统和真空系统的工作状态。本发明有效降低了镀膜设备总长度，减少了设备加热过程的耗时和加热功耗，缩短了镀膜作业时间。