发明授权
- 专利标题: 光学滤波器、制造方法及环境光传感器
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申请号: CN202111131418.2申请日: 2021-09-26
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公开(公告)号: CN113865701B公开(公告)日: 2024-09-10
- 发明人: 於广军
- 申请人: 上海申矽凌微电子科技股份有限公司
- 申请人地址: 上海市闵行区紫星路588号2幢366室
- 专利权人: 上海申矽凌微电子科技股份有限公司
- 当前专利权人: 上海申矽凌微电子科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市闵行区紫星路588号2幢366室
- 代理机构: 上海锻创知识产权代理有限公司
- 代理商 陈少凌
- 主分类号: G01J1/04
- IPC分类号: G01J1/04 ; G02B5/28
摘要:
本发明提供了一种光学滤波器、制造方法及环境光传感器,包括:衬底、光敏元器件、第一介质层、第一反射镜层、第一干涉层、第二反射镜层以及第二介质层;所述光敏元器件位于所述衬底内,所述第一介质层的下表面连接所述衬底和所述光敏元器件的上表面,所述第一反射镜层的下表面连接所述第一介质层的上表面,所述第一干涉层的下表面连接所述第一反射镜层的上表面,所述第二反射镜层的下表面连接所述第一干涉层的上表面,所述第二介质层的下表面连接所述第二反射镜层的上表面。本发明提出了一种兼容CMOS工艺的反射镜方案,在不降低滤波性能的基础上,可以降低制造成本,最大程度降低加工过程中工厂切换带来的麻烦。
公开/授权文献
- CN113865701A 光学滤波器、制造方法及环境光传感器 公开/授权日:2021-12-31