本发明公开了一种电容器结构以及其制造方法。电容器结构包括第一电极、第二电极以及电容介电叠层。电容介电叠层设置在第一电极与第二电极之间，且电容介电叠层包括第一介电层。第一介电层包括第一氧化锆层以及第一氧化硅锆层。电容器结构的制造方法包括下列步骤。在第一电极上形成电容介电叠层，且电容介电叠层包括第一介电层。第一介电层包括第一氧化锆层以及第一氧化硅锆层。然后，在电容介电叠层上形成第二电极，且电容介电叠层位在第一电极与第二电极之间。