本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种激光蒸发后进行等离子沉积的镀膜方法。包括如下步骤：S1，使用指向待喷涂零件表面的等离子加速器，所述等离子加速器产生等离子流，并垂直于所述等离子流提供激光辐射；S2，通过激光辐射聚焦蒸发靶材生成蒸气；S3，将步骤S2中生成的蒸气，通过间接等离子体射流沉积到被喷涂零件表面上，最终形成薄膜涂层。本发明具有能够通过激光蒸发涂覆涂层，然后通过等离子体雾化靶材蒸气颗粒并进行沉积，为涂覆均匀的薄膜涂层（从10nm到100μm）提供可能性的特点。