发明公开
- 专利标题： 光刻设备中的光学元件的位置测量
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申请号： CN202111432430.7申请日： 2017-05-24
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公开(公告)号： CN114236970A公开(公告)日： 2022-03-25
- 发明人: E.洛普斯特拉 , E.A.F.范德帕施 , S.布雷迪斯特尔 , S.科西恩
- 申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址： 德国上科亨
- 专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国上科亨
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 王蕊瑞
- 优先权： 102016209167.0 20160525 DE
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，其包括投射系统，该投射系统包括多个光学元件，该多个光学元件配置为将辐射束投射到辐射敏感基板上。光刻设备还包括计量框架结构，其包括一个或多个光学元件测量系统的部件以测量光学元件中的至少一个的位置和/或取向。多个光学元件、图案化装置台和基板台布置使得在投射系统上的二维视图中，矩形限定为包封多个光学元件、图案化装置台和基板台。矩形还限定为尽可能小，其中计量框架结构定位在矩形内。