本发明提供一种等离子体处理装置，能够提高等离子体的面内均匀性。等离子体处理装置具有腔室、第一下部电极、第二下部电极、第一上部电极、第二上部电极以及第一电源。第一下部电极设置于腔室的内部，所述第一下部电极具有用于载置基板的基板载置区域。第二下部电极配置于基板载置区域的外侧的区域。第一上部电极与基板载置区域相向地配置。第二上部电极配置于第一上部电极的外侧的区域，并与第二下部电极相向地配置。第一电源向第一下部电极供给具有周期性的信号。第二下部电极和第二上部电极中的至少一方具有凹部。第二下部电极或第二上部电极位于针对凹部的表面的法线上。