发明授权
- 专利标题: 一种LED外延结构及其制备方法
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申请号: CN202210166545.4申请日: 2022-02-23
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公开(公告)号: CN114551663B公开(公告)日: 2023-05-26
- 发明人: 徐洋洋 , 江汉 , 徐志军 , 黎国昌 , 程虎 , 王文君 , 苑树伟
- 申请人: 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
- 申请人地址: 江苏省宿迁市宿迁经济技术开发区东吴路南侧
- 专利权人: 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
- 当前专利权人: 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省宿迁市宿迁经济技术开发区东吴路南侧
- 代理机构: 北京弘权知识产权代理有限公司
- 代理商 逯长明; 许伟群
- 主分类号: H01L33/02
- IPC分类号: H01L33/02 ; H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
本申请提供了一种LED外延结构及其制备方法。LED外延结构包括:3D层、UGaN层、多量子阱层MQW和电子阻挡层EBL,所述多量子阱层MQW包括界面过渡层;其中,在所述3D层和所述UGaN层之间设置有第一BN结构层,在所述界面过渡层中设置有第一BGaN结构层,在所述电子阻挡层EBL中设置有第二BN结构层或者第二BGaN结构层。本申请通过在LED外延结构中插入BN结构层和BGaN结构层,利用其原子间作用力小、禁带宽度大的特点,可以有效的降低位错密度、释放应力,提升晶格质量;提高电子阻挡率和电子利用率,从而提升LED的发光效率。
公开/授权文献
- CN114551663A 一种LED外延结构及其制备方法 公开/授权日:2022-05-27
IPC分类: