本发明公开了一种等离子体处理装置及处理方法，包括一反应腔，所述反应腔包括：进气装置，用于向所述反应腔输送清洁气体；射频电源，用于将所述清洁气体解离为清洁等离子体；清洁晶圆，具有第一直径；静电吸盘，用于承载所述清洁晶圆，具有第二直径，所述第一直径与所述第二直径差值小于等于±0.5mm。本发明在清洁步骤中采用与静电吸盘110尺寸相接近的清洁晶圆覆盖静电吸盘表面，能够有效降低清洁等离子体对静电吸盘上表面的损害程度，同时，清洁晶圆不会对聚焦环的第二上表面134和聚焦环与静电吸盘之间的缝隙造成遮挡，使得清洁等离子体能有效清除聚焦环第二上表面和缝隙内的沉积物。