发明授权
- 专利标题： 在金属表面上选择性沉积钝化膜
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申请号： CN202180003878.9申请日： 2021-10-26
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公开(公告)号： CN114981472B公开(公告)日： 2024-09-06
- 发明人: 王勇 , 安德里亚·列奥尼 , 多琳·卫英·勇 , 巴斯卡尔·乔蒂·布雅 , 约翰·苏迪约诺
- 申请人： 应用材料公司 , 新加坡国立大学
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州;
- 专利权人： 应用材料公司,新加坡国立大学
- 当前专利权人： 应用材料公司,新加坡国立大学
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州;
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国; 赵静
- 国际申请： PCT/US2021/056624 2021.10.26
- 国际公布： WO2022/093801 EN 2022.05.05
- 进入国家日期： 2021-12-10
- 主分类号： C23C16/04
- IPC分类号： C23C16/04 ; C23C16/455 ; H01L21/02 ; B05D1/00
摘要：
描述了在基板上选择性沉积膜的方法。钝化膜在介电材料的沉积之前沉积在金属表面上。还描述了将包含金属表面和介电表面的基板表面暴露于对接前驱物以形成钝化膜。
公开/授权文献
- CN114981472A 在金属表面上选择性沉积钝化膜 公开/授权日：2022-08-30