发明授权
- 专利标题: 一种减反射微结构及其制作方法
-
申请号: CN202210674293.6申请日: 2022-06-15
-
公开(公告)号: CN115016048B公开(公告)日: 2024-02-27
- 发明人: 王兴祥 , 胡汉林 , 陈文礼 , 李松华 , 包悦 , 刘继伟 , 孔祥盛 , 孙俊伟 , 李同毅 , 赵文广 , 刘立平
- 申请人: 烟台睿创微纳技术股份有限公司
- 申请人地址: 山东省烟台市烟台开发区贵阳大街11号
- 专利权人: 烟台睿创微纳技术股份有限公司
- 当前专利权人: 烟台睿创微纳技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 山东省烟台市烟台开发区贵阳大街11号
- 代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 夏菁
- 主分类号: G02B1/11
- IPC分类号: G02B1/11 ; G03F7/20
摘要:
本申请公开了一种减反射微结构,涉及光学技术领域,用于光学器件窗口上,包括基底;设于基底上表面和/或下表面的微结构层,微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层,每层微结构阵列层包括多个微结构,不同微结构阵列层中的微结构的材料不同。本申请中减反射微结构的微结构层包括微结构阵列层,微结构阵列层包括多个微结构,微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜,实现减反射效果,同时微结构阵列层的层数在两层以上,且不同微结构阵列层的材料不同,减少折射率的突变,因此可以减少发生菲涅尔反射,增强减反射微结构的减反射能力,实现更好的增透效果。本申请还提供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。
公开/授权文献
- CN115016048A 一种减反射微结构及其制作方法 公开/授权日:2022-09-06