用于在等离子体处理装置中的边缘环处操纵功率的设备和方法
摘要:
本申请提供用于处理定位于基板支撑组件上的基板的方法和设备。例如,基板支撑组件包括:静电吸盘,静电吸盘具有嵌入其中的一个或多个吸附电极,一个或多个吸附电极用于将基板吸附至静电吸盘的基板支撑表面;边缘环,边缘环设置在静电吸盘上且围绕基板支撑表面;两个或更多个射频(RF)功率源、以及设置在静电吸盘下方的基底板或设置在静电吸盘中的电极中的至少一个,所述两个或更多个射频(RF)功率源耦接到边缘环;匹配网络,匹配网络将边缘环耦接到两个或更多个RF功率源;以及RF电路,RF电路将边缘环耦接到两个或更多个RF功率源,RF电路经配置以同时调谐两个或更多个RF功率源的各个信号的RF振幅或RF相位中的至少一个。
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