Invention Publication
- Patent Title: 晶体管、电子装置及晶体管之制造方法
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Application No.: CN202180014587.XApplication Date: 2021-02-17
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Publication No.: CN115136323APublication Date: 2022-09-30
- Inventor: 中积诚 , 岸梅工 , 森诚树 , 藤元高佳
- Applicant: 株式会社尼康 , 东丽工程株式会社
- Applicant Address: 日本东京都;
- Assignee: 株式会社尼康,东丽工程株式会社
- Current Assignee: 株式会社尼康,东丽工程株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都;
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 于洁; 褚瑶杨
- Priority: 2020-027134 20200220 JP
- International Application: PCT/JP2021/005865 2021.02.17
- International Announcement: WO2021/166940 JA 2021.08.26
- Date entered country: 2022-08-15
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786 ; C23C16/36 ; C23C16/42 ; C23C16/50 ; H01L21/31 ; H01L21/316 ; H01L21/336

Abstract:
本发明之晶体管具有闸极电极、闸极绝缘膜、半导体膜、源极电极及汲极电极,且上述闸极绝缘膜系交替积层SiOx膜与SiCyNz膜而成之积层膜,构成上述积层膜之膜之总数为3层以上18层以下,构成上述积层膜之各膜之膜厚为25nm以上150nm以下。
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