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公开(公告)号：CN114173970B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202080053449.8
申请日：2020-06-22
申请人： 住友电工硬质合金株式会社
摘要： 一种切削工具，包括：基材、以及设置在所述基材上的被覆层，所述被覆层包括由第一单元层和第二单元层构成的多层结构层、以及单独层，所述单独层含有立方晶型的TizAl1‑zN的晶粒，所述TizAl1‑zN中的Ti的原子比z为0.5以上0.65以下，所述单独层的厚度的平均值为2.5nm以上10nm以下，所述多层结构层的厚度的平均值为10nm以上95nm以下，在由1层所述多层结构层和1层所述单独层构成的重复单元中，所述重复单元的厚度的平均值为30nm以上70nm以下，所述重复单元的厚度的最大值为40nm以上100nm以下，所述重复单元的厚度的最小值为20nm以上40nm以下。
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公开(公告)号：CN118390053A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410860106.2
申请日：2024-06-28
申请人： 株洲钻石切削刀具股份有限公司
IPC分类号： C23C28/04 , C23C14/50 , C23C14/04 , C23C16/458 , C23C16/04 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/36
摘要： 本发明公开了一种用于制备硬质合金刀片不完全覆盖涂层的装置及制备多层涂层硬质合金刀片的方法，装置包括可置于高温涂层炉内的底盘和/或盖板，底盘呈板状且上表面上开设有可容纳待涂层刀片的型腔，型腔的腔侧面上开设有贯穿至底盘外周面的后涂层开口，后涂层开口至少与待涂层刀片的后刀面上所要形成的任一不完全覆盖涂层单元相对应，盖板可盖设于待涂层刀片的前刀面上，盖板上开设有贯穿盖板上、下表面的前涂层开口，前涂层开口至少与待涂层刀片的前刀面上所要形成的任一不完全覆盖涂层单元相对应，方法采用本发明的装置，可在硬质合金刀片表面进行一层不完全覆盖涂层单元的制备，所制备的多层涂层刀片稳定可靠、涂层性能好。
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公开(公告)号：CN118382719A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202280082265.3
申请日：2022-12-09
申请人： 朗姆研究公司
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/02 , C23C16/18 , C23C16/455 , C23C16/36 , C23C16/34 , H01L21/285 , H01L21/768
摘要： 以大晶粒钨填充特征的方法包括沉积碳氮化钨(WCN)或氮化钨(WN)膜以加衬在所述特征。所述WCN或WN膜可以被处理，其为随后生长大晶粒钨提供模板。所述特征的顶部经过氮处理以抑制成核，促进其自下而上的生长。在一些实施方案中，单晶钨自下而上生长。以单晶钨至少部分填充特征的方法包括所述特征的处理。在一些实施方案中，单晶钨在所述特征没有衬垫层的情况下在所述特征中生长。
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公开(公告)号：CN118007094A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202410125885.1
申请日：2016-06-14
申请人： 弗萨姆材料美国有限责任公司
IPC分类号： C23C16/34 , H01L21/02 , H01L21/3205 , C23C16/36 , C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/24 , C23C16/50
摘要： 本文描述了卤硅烷化合物、用于合成卤硅烷化合物的方法、包含卤硅烷前体的组合物以及用于使用卤硅烷前体沉积含硅膜(例如硅、无定形硅、氧化硅、氮化硅、碳化硅、氮氧化硅、碳氮化硅、掺杂硅膜和金属掺杂氮化硅膜)的方法。本文所述的卤硅烷前体化合物的实例包括但不限于一氯乙硅烷(MCDS)、一溴乙硅烷(MBDS)、一碘乙硅烷(MIDS)、一氯丙硅烷(MCTS)和一溴丙硅烷(MBTS)、一碘丙硅烷(MITS)。本文还描述了用于在约500℃或更低的一个或多个沉积温度下沉积含硅膜(例如但不限于硅、无定形硅、氧化硅、氮化硅、碳化硅、氮氧化硅、碳氮化硅、掺杂硅膜和金属掺杂氮化硅膜)的方法。
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公开(公告)号：CN115537772B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202211144578.5
申请日：2022-09-20
申请人： 株洲钻石切削刀具股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种涂层切削刀具，包括刀具基体以及设于刀具基体上的耐磨涂层，所述耐磨涂层至少包括AlxTi1‑xN1‑y‑zCyOz涂层，其中，0.45≤x≤0.98，0＜y≤0.2，0＜z≤0.18，所述AlxTi1‑xN1‑y‑zCyOz涂层内与所述刀具基体表面垂直的任意剖面，在沿AlxTi1‑xN1‑y‑zCyOz涂层的生长方向上，AlxTi1‑xN1‑y‑zCyOz涂层中Al、Ti、O元素的原子分数存在周期性变化。本发明的涂层切削刀具具有优异的耐磨性能，适用于铸铁、不锈钢及高温合金等难加工材料的高效加工。
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公开(公告)号：CN115198241B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202210738430.8
申请日：2022-06-27
申请人： 岭南师范学院 , 肇庆市万维新材料科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/20 , C23C16/36 , C23C16/50
摘要： 本发明属于材料表面处理技术领域，具体涉及一种纳米类金刚石非晶碳膜及其制备方法与应用。本发明采用物理气相沉积和等离子体增强化学气相沉积的复合技术制备得到的纳米类金刚石碳膜，可以显著提高碳膜硬度，降低摩擦系数，且能提高碳膜的耐腐蚀性能。
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公开(公告)号：CN117836464A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202280057034.7
申请日：2022-08-30
申请人： 肯纳金属公司
摘要： 在一个方面，本文描述切削工具，所述切削工具包括采用一个或多个多晶α‑Al2O3耐火层的耐磨涂层。简而言之，本文描述涂覆的切削工具，所述涂覆的切削工具包括基材以及粘附到所述基材的涂层，所述涂层包括通过化学气相沉积(CVD)沉积的多晶α‑Al2O3层，其中所述多晶α‑Al2O3层中所有晶界的至少5％具有如使用场发射扫描电子显微镜(FESEM)和电子背散射衍射(EBSD)检测器测定的小于15度的错取向角。
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公开(公告)号：CN117779000A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311823761.2
申请日：2023-12-27
申请人： 株洲欧科亿数控精密刀具股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种调控CVD涂层颜色的方法，包括：将准备好的涂层基体放置在涂层沉积炉中，进行涂层沉积，所述涂层主要成分为氮化钛、氮化铬、碳氮化钛、氧化锆，金属氮化物、碳氮化物或氧化物涂层；涂层完成后，对表面涂覆有氮化钛、氮化铬、碳氮化钛、氧化锆，金属氮化物、碳氮化物或氧化物的涂层样品进行热处理；根据不同的颜色要求，热处理中充入气体种类为压缩空气、氮氧混合气体、纯氧、纯氮中的一种，热处理温度需低于涂层完全氮化或氧化的温度，热处理时间为10‑120min，气体流量为0.1‑10L/min，本发明通过控制温度、时间、气氛等参数可以在较为简单的条件下完成涂层颜色的变化，其具有成本低、周期短、易实现、易推广、设备要求低、可变化颜色多样的优点。
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公开(公告)号：CN112638565B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN201980057975.9
申请日：2019-09-03
申请人： 京瓷株式会社
发明人： 胜间忠
摘要： 本发明的涂层刀具具备具有第一面的基体、和位于基体的至少第一面之上的涂层。涂层具有：第一层，其位于第一面之上且含有钛化合物；以及第二层，其位于与第一层之上相接的位置且含有氧化铝。第二层的利用X射线衍射分析而得到的取向系数Tc(0012)为3.0以上。在涂层中，在与第一面正交的剖面中，沿着第一层和第二层的边界存在多个空孔，空孔在沿着边界的方向上的宽度的平均值比相邻的空孔的间隔的平均值小。本发明的切削刀具具有：刀柄，其为从第一端朝向第二端延伸的棒状，且具有位于第一端侧的刀槽；以及上述涂层刀具，其位于刀槽内。
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公开(公告)号：CN117702079A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311168322.2
申请日：2023-09-11
申请人： ASM IP私人控股有限公司
发明人： I·尤丹诺夫 , C·沃克霍文 , L·Y·王 , I·J·拉伊杰马克斯 , O·卡利尔
IPC分类号： C23C16/32 , C23C16/458 , C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/36 , C23C16/26 , C23C16/44
摘要： 提供了一种用于在衬底上沉积第一材料层的沉积设备中的反应室部件。该部件可以具有部分涂覆有第一材料衬里的基底材料。该部件可以在第一材料衬里的顶部具有不同于第一材料的第二材料的保护层，以保护该部件。这在用于去除在使用反应室部件期间沉积的相同第一材料的寄生涂层的去除过程中可能是有用的。
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