发明公开
- 专利标题: 一种晶片抛光用防晶片剥离的无蜡垫及其生产工艺
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申请号: CN202210907246.1申请日: 2022-07-29
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公开(公告)号: CN115194642A公开(公告)日: 2022-10-18
- 发明人: 李加海 , 杨慧明 , 李元祥
- 申请人: 安徽禾臣新材料有限公司
- 申请人地址: 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房
- 专利权人: 安徽禾臣新材料有限公司
- 当前专利权人: 安徽禾臣新材料有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房
- 代理机构: 北京和联顺知识产权代理有限公司
- 代理商 尤珊珊
- 主分类号: B24B37/24
- IPC分类号: B24B37/24 ; B24B37/22 ; B24D11/00 ; C08L75/04 ; C08L55/02 ; C08K3/36 ; C08K3/22 ; C08K3/26 ; C08L63/00 ; C08K3/04 ; C08L101/00 ; C08L9/02 ; C08L1/24
摘要:
本发明公开了一种晶片抛光用防晶片剥离的无蜡垫及其生产工艺,包括弹性底盘、磨砂垫片、卡扣底座和卡扣内嵌钉,通过一体化成型特殊的弹性底盘,而弹性底盘中采用改性聚氨酯树脂弹性体作为核心材料,提高弹性底盘整体的弹性,以适应无蜡垫的弯折弹性,使无蜡垫在实际打磨晶片类材料时,弹性底盘能够配合无蜡垫进行各种形式的适应性弯折,无蜡垫本体的垫片打磨段则采用水性环氧树脂胶进行制备,通过调节水性环氧树脂胶的含量,调整垫片打磨段成品的实际弹性,本发明结构完整合理,实现了弹性底盘与无蜡垫之间的联动弹性的提高,同时弹性底盘中含有收集槽,能够在一定程度下收集晶片碎屑,并在一定程度上放置碎屑的飞溅。
公开/授权文献
- CN115194642B 一种晶片抛光用防晶片剥离的无蜡垫及其生产工艺 公开/授权日:2023-08-11