红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺

    公开(公告)号:CN117604453A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311681079.4

    申请日:2023-12-08

    摘要: 本发明公开了红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,属于石英基板镀膜技术领域。本发明的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,包括以下步骤:步骤一:对石英基板进行清洗,去除表面的污物,准备真空镀膜设备,将镀膜设备内抽真空,使真空度达到8×10‑4~10×10‑4Pa。本发明解决了现有石英基板红外线反射率低的问题,本发明提出的红外线高反射率的石英基板生产用石英镀膜工艺,采用硅、氮气、银和铝为镀膜材料,对红外线反射率高达90%以上,同时利用硅的熔点低的特点,将其与氮气反应,生成氮化硅,氮化硅将银和铝粒子融合,共同形成氮化硅层,保证反射率的同时,提高了整个膜层的强度和化学稳定性。

    一种蓝宝石防护盖板抛光用阻尼布及其生产工艺

    公开(公告)号:CN114952642B

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202210681527.X

    申请日:2022-06-15

    IPC分类号: B24D11/02 B24D11/00

    摘要: 本发明公开了一种蓝宝石防护盖板抛光用阻尼布及其生产工艺,属于阻尼布技术领域,包括上层、粘合层、中间层和下层,其中,中间层的上下两面上均设有粘合层,中间层通过两侧的粘合层分别与上层和下层固定并压紧;所述上层和下层上设有凹槽,并且凹槽呈矩形分布,上层和下层的凹槽内插入有抛光阻尼块。本发明提出的一种蓝宝石防护盖板抛光用阻尼布及其生产工艺,通过抛光层和发泡层结合在一起,抛光层用于抛光,发泡层进行过滤,将部分的研磨剂中液体通过抛光阻尼块渗入微孔然后流入横槽道和纵槽道排出,而抛光阻尼块将部分抛光液中混合的杂质进行过滤,方便后续研磨剂中液体体的循环使用,将凹槽中流入的研磨剂中液体快速排出,节省工序。

    一种防褶皱断裂的复合型阻尼布及其生产工艺

    公开(公告)号:CN116890492A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202310839110.6

    申请日:2023-07-10

    摘要: 本发明公开了一种防褶皱断裂的复合型阻尼布及其生产工艺,属于阻尼布技术领域,包括阻尼布基层、抗皱弹性层和阻尼布面层,所述抗皱弹性层的上表面连接有阻尼布面层,所述抗皱弹性层的下表面连接有阻尼布基层,所述阻尼布基层和阻尼布面层均与抗皱弹性层之间的间隙处填充有粘接固化剂。本发明解决了现有的阻尼布整体防褶皱性能差,导致阻尼布在长时间使用后,阻尼布易断裂,进而影响阻尼布的正常使用,降低了阻尼布的使用寿命的问题,本发明可有效提升复合型阻尼布的拉伸力和弹性,提升复合型阻尼布的整体防褶皱性能,避免复合型阻尼布在长时间使用后断裂,可充分保障复合型阻尼布的正常使用,提升复合型阻尼布的使用寿命。

    一种基于石英基板材料的抛光工艺

    公开(公告)号:CN115415922B

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202211159728.X

    申请日:2022-09-22

    摘要: 本发明公开了一种基于石英基板材料的抛光工艺,属于抛光设备技术领域,包括一种抛光装置,抛光装置包括抛光台、可调式抛光机构和隔音遮挡外罩,包括如下步骤:将石英基板材料放置在抛光台上,使隔音遮挡外罩位于可调式抛光机构的外围;可调式抛光机构调整抛光位置,利用可调式抛光机构对石英基板材料进行贴合抛光。为了解决易碰伤操作人员,且污染环境,不能保证抛光轮始终贴合抛光,其抛光效果差的问题,本发明的基于石英基板材料的抛光工艺,避免废料四溅及污染环境,减少操作人员被碰伤事件的发生,减小抛光噪音,利用可调式抛光机构对石英基板材料进行贴合抛光,对于不平整面,抛光轮可适用,其适用范围广,其抛光效果好。

    一种晶片抛光用抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN115386297A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202210884062.8

    申请日:2022-07-26

    发明人: 李加海 梁则兵

    IPC分类号: C09G1/02 C09K3/14 H01L21/304

    摘要: 本发明涉及一种晶片抛光用抛光液及其制备方法,抛光液包括抛光粉、去离子水、氧化剂、分散剂和pH调节剂,制备方法包括如下步骤:按照重量百分比将氧化剂加入去离子水中,然后加入抛光粉和分散剂,加入去离子水至所需体积,用pH调节剂调节pH值为4‑6,磁力搅拌10min,得到抛光液,本发明中制备了一种抛光粉,自制的改性剂在三氟乙酸的催化作用下,在磨粒表面发生溶胶‑凝胶反应,修饰后,抛光液的稳定性得到提高。制备的抛光粉不易发生团聚,加工表面不易产生划痕,抛光粉与晶片的总接触面积高,提高了抛光效率。

    一种多孔聚氨酯抛光垫及其抛光垫凹部成型方法

    公开(公告)号:CN113183008B

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202110348361.5

    申请日:2021-03-31

    发明人: 李加海 谭鸿

    摘要: 本发明公开了一种多孔聚氨酯抛光垫及其抛光垫凹部成型方法,包括抛光内芯、连接凸块、中心孔、混合聚氨酯泡沫和表面凹部,该抛光垫在抛光内芯中加工出中心孔,并首先在中心孔中安装鼓气杆,在将制备的混合聚氨酯泡沫涂刷于抛光内芯的上下两面,在烘干过程中,由鼓气杆向混合聚氨酯泡沫中鼓气,使烘干的混合聚氨酯泡沫中内具有多孔结构,当混合聚氨酯泡沫烘干完毕后,将鼓气杆从混合聚氨酯泡沫的预留孔中取出,并将该预留孔加工成表面凹部,在进行工件的磨光抛光操作时,由于表面凹部的存在,抛光垫内各处对工件的磨光作用力不同,避免了由于工件表面凸起被磨削后,对工件的抛光效果下降问题,有效提高其抛光效果。

    一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺

    公开(公告)号:CN115341183A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202211013170.4

    申请日:2022-08-23

    摘要: 本发明公开了一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺,属于石英基板镀膜技术领域。本发明的一种高精度石英基板镀膜及其生产工艺,所述镀膜设置为双层结构,分别为表层的氮化铬镀层以及底层的离型复合镀层。为解决现有技术中的光掩膜所需的石英基材在长时间使用的过程中会受到蚀刻液的影响,从而导致其表面出现磨损情况,一旦基材出现磨损,整个掩膜版结构便无法再投入使用的问题,离型复合镀层是由纯铬和低晶聚四氟乙烯涂层组合而成,聚四氟乙烯涂层可以对石英基材起到一个保护的作用,避免在后续蚀刻的过程中液体对基材的表面造成腐蚀,去除低晶聚四氟乙烯涂层时,只需将基材放入到加热箱中加热便可以直接分解成气体,从而实现无伤脱模的操作。