发明公开
- 专利标题: 用于多束检测系统的束阵列几何形状优化器
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申请号: CN202180018703.5申请日: 2021-02-24
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公开(公告)号: CN115210845A公开(公告)日: 2022-10-18
- 发明人: 陈德育 , M·G·J·M·玛森
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 张宁
- 优先权: 62/985,669 20200305 US
- 国际申请: PCT/EP2021/054608 2021.02.24
- 国际公布: WO2021/175685 EN 2021.09.10
- 进入国家日期: 2022-09-02
- 主分类号: H01J37/28
- IPC分类号: H01J37/28 ; H01J37/29
摘要:
公开了用于多束检查工具的束阵列几何形状优化的装置、系统和方法。在一些实施例中,一种微机电系统(MEMS)可以包括第一行孔口;位于第一行孔口下方的第二行孔口;位于第二行孔口下方的第三行孔口;以及位于第三行孔口的下方的第四行孔口;其中第一行孔口、第二行孔口、第三行孔口和第四行孔口在第一方向上彼此平行;第一行孔口和第三行孔口在垂直于第一方向的第二方向上从第二行孔口和第四行孔口偏移;第一行孔口和第三行孔口具有第一长度;第二行孔口和第四行孔口具有第二长度;并且在第二方向上,第一长度长于第二长度。