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公开(公告)号:CN108604522A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201680081651.5
申请日:2016-03-28
申请人: 株式会社日立高新技术
摘要: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的,提出一种带电粒子束装置,其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒,该带电粒子束装置具备:向对象物照射光的光源;以及控制装置,该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测,求出维持某个偏转状态的多个偏转信号,并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号,或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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公开(公告)号:CN107667411A
公开(公告)日:2018-02-06
申请号:CN201680027869.2
申请日:2016-05-26
申请人: 科磊股份有限公司
摘要: 本发明揭示一种电子源的电子提取器,其能够从接近于所述提取器的空腔吸收污染物材料。所述电子提取器包含主体。所述电子提取器的所述主体由一或多种不可蒸发吸气剂材料形成。所述一或多种不可蒸发吸气剂材料吸收容纳于接近于所述电子提取器的所述主体的区域内的一或多种污染物。所述电子提取器的所述主体进一步经配置以从接近于所述电子提取器的所述主体定位的一或多个发射器提取电子。
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公开(公告)号:CN115763200B
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202211576341.4
申请日:2022-12-09
申请人: 内蒙古工业大学
摘要: 本发明公开了一种多工位扫描透射明场像成像装置,包括样品台、旋转结构、底座和成像结构;样品台上开设有多个样品凹槽,多个样品凹槽呈圆形围绕样品台的中心分布;旋转结构的一端与样品台固定连接,另一端穿过底座,用于带动样品台在水平方向上做圆周运动;成像结构固定设置于底座上,且成像结构的透射口与其中一个样品凹槽的位置对应,用于接收穿过该样品凹槽的透射电子,并形成明场像。本发明在样品台上设置多个样品凹槽,可以一次性放置多个样品,再结合旋转结构及成像结构,可以在采集完一个样品的明场像后,利用旋转结构带动样品台转动至下一个样品凹槽,采集下一个样品凹槽内样品的明场像。本发明的成像装置采集明场像效率高,且成本低。
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公开(公告)号:CN115210845A
公开(公告)日:2022-10-18
申请号:CN202180018703.5
申请日:2021-02-24
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: 陈德育 , M·G·J·M·玛森
摘要: 公开了用于多束检查工具的束阵列几何形状优化的装置、系统和方法。在一些实施例中,一种微机电系统(MEMS)可以包括第一行孔口;位于第一行孔口下方的第二行孔口;位于第二行孔口下方的第三行孔口;以及位于第三行孔口的下方的第四行孔口;其中第一行孔口、第二行孔口、第三行孔口和第四行孔口在第一方向上彼此平行;第一行孔口和第三行孔口在垂直于第一方向的第二方向上从第二行孔口和第四行孔口偏移;第一行孔口和第三行孔口具有第一长度;第二行孔口和第四行孔口具有第二长度;并且在第二方向上,第一长度长于第二长度。
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公开(公告)号:CN106098518A
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201610294324.X
申请日:2016-05-03
申请人: FEI公司
IPC分类号: H01J37/147 , H01J37/29
摘要: 本发明涉及使用定向波束信号分析的粒子大小的自适应扫描。提供了用于扫描显微镜的系统和方法以快速形成区域的部分图像。该方法包括执行区域的初始扫描以及使用初始扫描来识别表示在区域中的感兴趣的特征的区。然后,该方法执行表示感兴趣的结构的区的附加自适应扫描。这样的扫描通过执行与特征边缘交叉的局部扫描图案并指引局部扫描图案跟随特征边缘来使扫描波束的路径适合于跟随感兴趣的特征的边缘。
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公开(公告)号:CN111819654B
公开(公告)日:2023-11-14
申请号:CN201980017872.X
申请日:2019-02-21
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
摘要: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器,其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
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公开(公告)号:CN111819654A
公开(公告)日:2020-10-23
申请号:CN201980017872.X
申请日:2019-02-21
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: H01J37/28 , H01J37/147 , H01J37/29
摘要: 本公开提出了一种用于将多个电子束引导到电子检测装置上的光电系统的交叉形成偏转器阵列。交叉形成偏转器阵列包括位于光电系统的一个或多个光电透镜的集合的图像平面处或至少附近的多个交叉形成偏转器,其中每个交叉形成偏转器与多个电子束中的对应的电子束对准。
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公开(公告)号:CN111801764A
公开(公告)日:2020-10-20
申请号:CN201980016742.4
申请日:2019-03-01
申请人: 塔斯米特株式会社
摘要: 本发明涉及用于分析从试样产生的背散射电子的能量的装置及方法。该装置包括:电子束源(101),其用于产生一次电子束;电子光学系统(102、105、112),其使一次电子束引导至试样地会聚并偏转;以及能量分析系统,其能够检测从试样产生的背散射电子的能谱。能量分析系统具备:维恩过滤器(108),其使背散射电子分散;检测器(107),其用于测定由维恩过滤器(108)分散的背散射电子的能谱;以及动作控制部(150),其一边使维恩过滤器(108)的四极场的强度变化,一边与四极场的强度的变化同步地使检测器(107)的背散射电子的检测位置移动。
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公开(公告)号:CN106098518B
公开(公告)日:2020-01-10
申请号:CN201610294324.X
申请日:2016-05-03
IPC分类号: H01J37/147 , H01J37/29
摘要: 本发明涉及使用定向波束信号分析的粒子大小的自适应扫描。提供了用于扫描显微镜的系统和方法以快速形成区域的部分图像。该方法包括执行区域的初始扫描以及使用初始扫描来识别表示在区域中的感兴趣的特征的区。然后,该方法执行表示感兴趣的结构的区的附加自适应扫描。这样的扫描通过执行与特征边缘交叉的局部扫描图案并指引局部扫描图案跟随特征边缘来使扫描波束的路径适合于跟随感兴趣的特征的边缘。
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