Invention Publication
- Patent Title: 用于带电粒子系统中的高吞吐量缺陷检查的系统和方法
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Application No.: CN202180020836.6Application Date: 2021-03-09
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Publication No.: CN115280462APublication Date: 2022-11-01
- Inventor: 祃龙 , 董仲华 , 陈德育
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 张宁
- Priority: 62/988,817 20200312 US
- International Application: PCT/EP2021/055954 2021.03.09
- International Announcement: WO2021/180743 EN 2021.09.16
- Date entered country: 2022-09-13
- Main IPC: H01J37/26
- IPC: H01J37/26 ; H01J37/28
Abstract:
公开了一种用于生成射束的设备、系统和方法，该射束用于检查被定位在带电粒子束系统中的工作台上的晶片。一些实施例中，控制器包括被配置为执行以下操作的电路系统：通过区域的类型对沿着晶片的条带的多个区域进行分类，该条带大于射束的视场，其中多个区域的分类包括第一类型的区域和第二类型的区域；以及通过基于区域的类型控制工作台的速度来扫描晶片，其中第一类型的区域以第一速度被扫描，并且第二类型的区域以第二速度被扫描。
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