本发明公开了一种用于生长氧化铝/氧化硅和非晶硅薄膜的连续式生产设备，由平板式PEALD功能模块与射频/微波PECVD功能模块合并构成，该设备包括硅片传输机构和沿传输方向依次设置的上料腔、第一预热腔、原子层沉积工艺腔、第一缓存腔、过渡腔、第二预热腔、化学气相沉积工艺腔和下料腔，第二缓存腔、下料腔。相邻腔室之间均设有真空隔离阀，上料腔、第一预热腔、原子层沉积工艺腔、第一缓存腔构成平板式PEALD功能模块，过渡腔、第二预热腔、化学气相沉积工艺腔、第二缓存腔、下料腔构成PECVD功能模块。本发明将平板式PEALD功能模块和射频/微波PECVD功能模块二者合并在一台设备上、可以满足两种薄膜的生长要求。