发明公开
- 专利标题： 光致抗蚀剂的干式背侧和斜面边缘清洁
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申请号： CN202180051077.X申请日： 2021-06-17
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公开(公告)号： CN115885376A公开(公告)日： 2023-03-31
- 发明人: 丹尼尔·彼得 , 游正义 , 萨曼莎·西亚姆华·坦 , 薛萌 , 李达 , 基思·爱德华·道森 , 克林特·爱德华·托马斯 , 约翰·丹尼·贝特里娜·帕乔
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 李献忠; 张华
- 优先权： 62/705,333 20200622 US
- 国际申请： PCT/US2021/037924 2021.06.17
- 国际公布： WO2021/262529 EN 2021.12.30
- 进入国家日期： 2023-02-20
- 主分类号： H01L21/687
- IPC分类号： H01L21/687
摘要：
执行干式背侧和斜面边缘清洁而不暴露于等离子体，以从衬底移除不想要的光致抗蚀剂材料。衬底被支撑在衬底支撑件上并通过最小接触区域(MCA)支撑件抬高，使得蚀刻气体可以接触到衬底背侧。气体分配器是将帘式气体输送至衬底的正面，以保护正面上的光致抗蚀剂材料。蚀刻气体输送源是将第一蚀刻气流输送至该背侧，一或多个周围气体入口则将第二蚀刻气流输送至正面的周围以及斜面边缘附近。辐射热源位于衬底下方以加热衬底。
IPC分类:
