发明公开
- 专利标题: 一种适用于超深孔TSV填充的电镀铜液及其电镀铜工艺
-
申请号: CN202211539223.6申请日: 2022-12-01
-
公开(公告)号: CN115976584A公开(公告)日: 2023-04-18
- 发明人: 沈文宝 , 姚玉 , 洪学平
- 申请人: 深圳创智芯联科技股份有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市宝安区新安街道留仙二路中粮商务公园1栋14楼1403A
- 专利权人: 深圳创智芯联科技股份有限公司
- 当前专利权人: 深圳创智芯联科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市宝安区新安街道留仙二路中粮商务公园1栋14楼1403A
- 主分类号: C25D3/38
- IPC分类号: C25D3/38 ; C25D7/12 ; H01L21/768
摘要:
本发明公开了一种适用于超深孔TSV填充的电镀铜液及其电镀铜工艺。电镀铜工艺通过真空超声润湿的方式进行前处理,再配合本发明提供的TSV填充的电镀铜液实现超深孔TSV的100%填充。TSV电镀填充溶液包括甲基磺酸铜、甲基磺酸、二水氯化铜、N.N二甲基二硫代氨基甲酰基丙磺酸钠、2,5,8,11‑四甲基‑6‑十二碳炔‑5,8‑二醇聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、4,5,6,7‑四氢‑6‑甲基‑2‑氨基苯并噻唑、4,5,6,7‑四氢苯并噻唑‑6‑酮。本发明提供的一种适用于超深孔的TSV填充镀铜技术不仅具有药水性能稳定、使用寿命可以达到30天,超出其他药水寿命1倍以上。