本发明提供一种料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法，包括机架，该机架沿长度方向上下布置有第一水平导轨和第二水平导轨；设置在机架中部的第一吸附组件，该第一吸附组件能够沿着第一水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；设置在机架中部的第二吸附组件，该第二吸附组件能够沿着第二水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；以及设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。通过在基材悬空的中间部位设置起支撑作用的吸附组件，还能够对基材进行吸附，并且在基材两端设置端部夹紧机构，从而使得在曝光过程中基材被有效限位，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移。