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公开(公告)号：CN118131579A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410358256.3
申请日：2024-03-27
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
IPC分类号： G03F7/20 , B65G47/91 , B65G35/06 , B65G47/06 , B65G47/248
摘要： 本发明公开一种曝光机前端系统及其操作方法，包括具有容纳室的外壳主体，所述外壳主体内集成有基材装载模块，所述基材装载模块包括取料单元和收料单元，所述取料单元和收料单元间隔分布在所述外壳主体内部同侧；基材预对准模块，所述基材预对准模块位于所述取料单元和收料单元之间；以及基材输送模块，所述基材输送模块与所述基材装载模块相对设置，所述基材输送模块包括基材搬运机构，所述基材搬运机构可沿既定的轨迹及距离进行运动，使基材在所述取料单元、基材预对准模块以及收料单元之间传递运输。实现面板基材的取料、收料、输送、预对准及搬运的一体化；且一次性取放两片基材进行曝光作业，提高了整体的生产效率。
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公开(公告)号：CN116430684A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202310436374.7
申请日：2023-04-19
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种曝光设备，曝光设备包括：工作台；曝光支架，曝光支架可移动地安装于工作台，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件，多个上曝光头组件安装于上支臂，多个下曝光头组件安装于下支臂；标定支撑架，标定支撑架安装于工作台且部分位于上曝光头组件和下曝光头组件之间；水平标定组件，水平标定组件安装于标定支撑架，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件在水平标定组件处校准多个上曝光头组件相对位置以及多个下曝光头组件相对位置；竖直标定组件，竖直标定组件安装于标定支撑架，竖直标定组件用于校准上曝光头组件和下曝光头组件之间的相对位置。根据本发明实施例的曝光设备，具有标定准确、操作方便、有利于实现自动化等优点。
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公开(公告)号：CN115963706A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202310007548.8
申请日：2023-01-04
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。
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公开(公告)号：CN115981111A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310007185.8
申请日：2023-01-04
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明提供一种料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法，包括机架，该机架沿长度方向上下布置有第一水平导轨和第二水平导轨；设置在机架中部的第一吸附组件，该第一吸附组件能够沿着第一水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；设置在机架中部的第二吸附组件，该第二吸附组件能够沿着第二水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；以及设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。通过在基材悬空的中间部位设置起支撑作用的吸附组件，还能够对基材进行吸附，并且在基材两端设置端部夹紧机构，从而使得在曝光过程中基材被有效限位，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移。
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公开(公告)号：CN220752515U
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202322226694.8
申请日：2023-08-17
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
摘要： 本实用新型涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种自动拉料装置、直写曝光机，所述自动拉料装置包括基座以及分别设置在基座上的放料端拉料机构与收料端拉料机构，其中放料端拉料机构放置于曝光机的放料端，用于吸附待加工的PET膜，并带动PET膜沿着既定方向移动；收料端拉料装置放置于曝光机的收料端，用于将经过曝光机曝光的PET膜移出曝光区。本实用新型通过将放料端拉料机构与收料端拉料机构集成到曝光机内部，在完成曝光的同时，能自主实现拉料，解决了现有技术中采用柱形隔垫物方式形成液晶显示器的液晶层时，大多是在曝光设备之外单独设计拉料装置，存在不仅增加了成本，也为整线增大了尺寸的问题，具有广阔的市场前景。
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公开(公告)号：CN220502126U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202322054666.2
申请日：2023-07-31
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
IPC分类号： B65H16/02 , B65H18/02 , B65H23/032
摘要： 本实用新型涉及直写曝光技术领域，具体公开了一种应用于卷对卷曝光的收放卷装置，包括放卷装置、收卷装置与曝光设备，放卷装置包括用于放出待曝光的卷料的放卷轮，放卷轮的一侧设有第一接料平台，另一侧设有第一夹紧装置，在靠近曝光设备处设有纠偏装置。本实用新型通过设置了纠偏装置，在放卷轮放出待曝光的卷料后，第一接料平台将放出的待曝光的卷料进行夹紧，同时，纠偏装置实时检测卷料的侧边位置，以在发生偏移时带动放卷装置的输出端调整位置，从而在料带进入曝光设备进行曝光时可以实现实时调整位置，解决了现有曝光设备在需要连续曝光时存在无法实现卷料的实时纠偏的问题，具有广阔的市场前景。
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公开(公告)号：CN220399796U
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202321822604.5
申请日：2023-07-11
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本实用新型涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种被动元件直写曝光设备，包括基座、输送装置、拍板预对位装置以及中心曝光区。本实用新型通过采用具有双机构取放片功能的输送装置，在待曝光料片进行曝光时，输送装置同时进行下一片待曝光料片的拍板预对位等准备工作；曝光结束后，输送装置把已曝光料片取出，接着可立即把下一片待曝光料片放入曝光区，能够实现曝光动作的无缝对接，极大提高了生产效率，解决了现有被动元件生产设备大多采用传统曝光机，需要借助掩膜版完成对图形的曝光，存在无法实现曝光动作的无缝对接，影响了生产效率的问题，具有广阔的市场前景。
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公开(公告)号：CN218273082U
公开(公告)日：2023-01-10
申请号：CN202221866022.2
申请日：2022-07-19
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
摘要： 本实用新型提供一种应用于芯片引线框架的卷对卷连续曝光装置，包括机架、设置在机架顶部的曝光机以及设置在曝光机下方用于吸附卷料的吸盘，顶升机构包括两个沿卷料输送方向分置于吸盘两端的顶升组件，收料卷机构设置在曝光机下料端，用于将曝光后卷料输出，标定机构设置在机架上且位于卷料上方，用于对曝光机镜头进行标定，本实用新型一方面能够解决现有技术中存在的无法对镜头位置进行实时标定的不足，也能通过吸盘前后端的顶升组件和后侧的滚筒组合，解决现有技术中仅能应用于以聚酰亚胺或聚酯薄膜等软性材料为基材的FPC柔性电路板的曝光制程，使得本实用新型专利能够应用于以铜合金等硬质材料为基材的芯片引线框架的曝光制程。
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公开(公告)号：CN219349349U
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202320017951.4
申请日：2023-01-04
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本实用新型提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。
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公开(公告)号：CN219328981U
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202320017952.9
申请日：2023-01-04
申请人： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
发明人： 叶飞
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本实用新型提供一种用于双面卷对卷激光直写曝光机的涨紧装置，包括具有水平导轨的机架，该机架中部设置有用于对基材悬空的中间部位进行支撑的支撑机构，该支撑机构能够沿着水平导轨移动；设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧；以及设置在端部夹紧机构内侧机架上的用于压紧基材的涨紧机构。本实用新型通过在基材悬空的中间部位设置支撑机构，在基材两端设置端部夹紧机构和涨紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，并且基材一直贴合在支撑机构的表面，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。
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