本发明涉及光刻领域，特别是涉及一种晶圆测量机台的校准方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过获取给定图形及所述给定图形对应的第一关键尺寸的可靠值；利用待校机台测量所述给定图形的第一关键尺寸，得到测量过程中的灰度变化曲线；通过所述灰度变化曲线，确定关键图像峰；根据所述第一关键尺寸的可靠值，在所述关键图像峰中确定目标灰度；将所述目标灰度作为所述待校机台的图形‑背景分界值，完成对所述待校机台的校准。本发明通过所述待校机台在测量过程中获得的灰度变化曲线，圈定图形的大致范围，再确定在所述给定图形与背景的边界处，所述待校机台读取到的灰度值，实现了兼顾所述待校机台高速量测与较高的的量测精度与准确率。