发明公开
- 专利标题: 波导结构及其制造方法、光子集成电路及其制造方法
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申请号: CN202111516863.0申请日: 2021-12-13
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公开(公告)号: CN116263518A公开(公告)日: 2023-06-16
- 发明人: 苏湛 , 达迪·塞蒂亚迪 , 徐叶龙 , 吴建华 , 柏艳飞 , 朱云鹏 , 邹静慧 , 孟怀宇 , 沈亦晨
- 申请人: 上海曦智科技有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区自由贸易试验区松涛路696号3幢401室、402室
- 专利权人: 上海曦智科技有限公司
- 当前专利权人: 上海曦智科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区自由贸易试验区松涛路696号3幢401室、402室
- 代理机构: 北京三环同创知识产权代理有限公司
- 代理商 赵勇; 邵毓琴
- 主分类号: G02B6/12
- IPC分类号: G02B6/12 ; G02B6/122 ; G02B6/136
摘要:
本发明涉及光子集成电路领域,其提供了一种波导结构的制造方法,包括:形成第一材料层;基于所述第一材料层形成第一波导、第二波导,所述第一波导与所述第二波导具有间隔;形成第二材料层;基于所述第二材料层形成波导耦合结构,所述波导耦合结构分别与第一波导、第二波导光学耦合,以使得第一波导与第二波导实现光连接。可以使得波导连接范围不仅局限于一次曝光所限定的区域,将不同曝光区域的波导实现互连,减少波导互连时对准的精度要求,还能够有效避免波导连接时的接合缺陷。