发明公开
- 专利标题: 非均质二维材料的复合物、制造其的方法、和电子器件
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申请号: CN202211410901.9申请日: 2022-11-11
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公开(公告)号: CN116266530A公开(公告)日: 2023-06-20
- 发明人: 薛珉洙 , 申铉石 , 卞卿溵 , 黄炫泰 , 李昌锡 , 金炯俊
- 申请人: 三星电子株式会社 , 蔚山科学技术院
- 申请人地址: 韩国京畿道;
- 专利权人: 三星电子株式会社,蔚山科学技术院
- 当前专利权人: 三星电子株式会社,蔚山科学技术院
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道;
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 金拟粲
- 优先权: 10-2021-0181076 20211216 KR
- 主分类号: H01L21/02
- IPC分类号: H01L21/02
摘要:
提供非均质二维材料的复合物、制造其的方法、和电子器件。所述非均质二维材料的复合物可包括:基板;在所述基板上并且具有二维晶体结构的第一二维材料层;以及在所述基板和所述第一二维材料层之间的第二二维材料层。所述第二二维材料层具有其中多个磷原子彼此共价键合的二维晶体结构。