- 专利标题: 一种多态相边界动态随机存储器件及其制备方法
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申请号: CN202310566279.9申请日: 2023-05-19
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公开(公告)号: CN116322044A公开(公告)日: 2023-06-23
- 发明人: 周久人 , 孙温馨 , 韩根全 , 郝跃
- 申请人: 西安电子科技大学杭州研究院 , 西安电子科技大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区钱农东路8号;
- 专利权人: 西安电子科技大学杭州研究院,西安电子科技大学
- 当前专利权人: 西安电子科技大学杭州研究院,西安电子科技大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区钱农东路8号;
- 代理机构: 杭州汇和信专利代理有限公司
- 代理商 陈江
- 主分类号: H10B12/00
- IPC分类号: H10B12/00 ; H10N97/00
摘要:
本发明提供一种多态相边界动态随机存储器件及其制备方法,包括接入晶体管、公用底电极、若干个顶电极,公用底电极上设有MPB氧化铪基介电层,顶电极沿着竖直方向依次设置,MPB氧化铪基介电层设置在公用底电极和顶电极之间;公用底电极、MPB氧化铪基介电层以及一个顶电极构成一个MPB氧化铪基电容,多个MPB氧化铪基电容垂直堆叠。本发明针对集成电路产业的海量信息存算需求,以及“1T‑1C”DRAM随特征尺寸持续缩放的存储窗口和电荷信号密度,提供一种多态相边界动态随机存储器件及其制备方法,通过多态相边界材料的超高介电特性,显著提升DRAM电荷信号密度并支撑多值存储及存算融合DRAM应用,以满足后摩尔时代集成电路对于信息密度与功能的升级需求。
公开/授权文献
- CN116322044B 一种多态相边界动态随机存储器件及其制备方法 公开/授权日:2023-08-08