发明公开
- 专利标题： 大豆间座壳菌提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途
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申请号： CN202310317717.8申请日： 2020-11-26
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公开(公告)号： CN116509909A公开(公告)日： 2023-08-01
- 发明人: 柯宏慧 , 张训硕 , 陈宜芳 , 杨舜心 , 林品妤 , 林秀芳 , 李政明 , 谢松源 , 郑铭仁 , 吴明德
- 申请人： 高雄医学大学 , 财团法人食品工业发展研究所
- 申请人地址： 中国台湾高雄市三民区十全一路100号;
- 专利权人： 高雄医学大学,财团法人食品工业发展研究所
- 当前专利权人： 高雄医学大学,财团法人食品工业发展研究所
- 当前专利权人地址： 中国台湾高雄市三民区十全一路100号;
- 代理机构： 广州文冠倪律知识产权代理事务所
- 代理商 何锦标; 张玉颖
- 主分类号： A61K36/062
- IPC分类号： A61K36/062 ; A61P17/00 ; A61P17/16 ; A61K8/9728 ; A61K31/336 ; A61K8/49 ; A61Q17/04 ; A61Q19/02 ; C07D303/14
摘要：
本发明提供一种大豆间座壳菌(Diaporthe caulivora)提取物用于制备抗紫外线伤害及减少色素沉着的组合物的用途。本发明也提供一种分离自大豆间座壳菌(Diaporthe caulivora)提取物的新颖化合物，以及包含该化合物的组合物。
