发明公开
- 专利标题: 瑕疵样本生成方法、装置、存储介质及电子设备
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申请号: CN202310431611.0申请日: 2023-04-20
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公开(公告)号: CN116645571A公开(公告)日: 2023-08-25
- 发明人: 李大钧 , 刘长磊 , 刘小奇 , 王广群 , 王承凯 , 祁伟 , 孙金龙 , 史明亮 , 刘海龙 , 刘乐 , 朱建成
- 申请人: 国华能源投资有限公司 , 众芯汉创(北京)科技有限公司
- 申请人地址: 北京市东城区东直门南大街3号楼;
- 专利权人: 国华能源投资有限公司,众芯汉创(北京)科技有限公司
- 当前专利权人: 国华能源投资有限公司,众芯汉创(北京)科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市东城区东直门南大街3号楼;
- 代理机构: 北京英创嘉友知识产权代理事务所
- 代理商 代凤霞
- 主分类号: G06V10/774
- IPC分类号: G06V10/774 ; G06V10/82 ; G06T5/50 ; G06T7/00 ; G06N3/045 ; G06N3/0464 ; G06N3/0475 ; G06N3/094
摘要:
本公开涉及一种瑕疵样本生成方法、装置、存储介质及电子设备,该方法包括:对原始缺陷样本进行变形处理,以生成原始瑕疵图像,提取原始瑕疵图像中的瑕疵区域,生成原始瑕疵数据集,基于渐进增长对抗生成PGGAN网络训练原始瑕疵数据集,以生成瑕疵块样本,将瑕疵块样本与原始无瑕疵样本进行区域及预定位的图像融合,生成目标瑕疵样本。从而采用PGGAN网络对原始瑕疵数据集进行训练学习,生成多样的瑕疵样本块,再将瑕疵样本块与原始无瑕疵样本进行融合,提高了扩增样本的多样性。