发明公开
- 专利标题: 高力低电压压电微反射镜致动器
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申请号: CN202180080481.X申请日: 2021-11-12
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公开(公告)号: CN116783553A公开(公告)日: 2023-09-19
- 发明人: L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , G·布瑞恩达尼托里 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·L·克莱因 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王益
- 优先权: 20213659.4 20201214 EP 20213659.4 20201214 EP
- 国际申请: PCT/EP2021/081584 2021.11.12
- 国际公布: WO2022/112027 EN 2022.06.02
- 进入国家日期: 2023-05-30
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20
摘要:
一种微反射镜阵列,包括:衬底;用于反射入射光的多个反射镜;以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器,所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位,其中,所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底,并且其中所述至少一个多层压电致动器包括多个压电材料压电层,所述多个压电材料压电层与多个电极层交错以形成叠置层。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或用于检查和/或量测设备中。
IPC分类: