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公开(公告)号：CN116783553A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180080481.X
申请日：2021-11-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , G·布瑞恩达尼托里 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·L·克莱因 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器，所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位，其中，所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底，并且其中所述至少一个多层压电致动器包括多个压电材料压电层，所述多个压电材料压电层与多个电极层交错以形成叠置层。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或用于检查和/或量测设备中。
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公开(公告)号：CN111226172B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201880067247.1
申请日：2018-10-10
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种声学散射仪(502)具有声学源(520)，其可操作以将声学辐射(526)投影到形成在衬底(536)上的周期性结构(538)和(540)上。声学检测器(518)可操作以检测由周期性结构(538)和(540)衍射的负第一声学衍射阶(528)，同时区别于镜面反射(第0阶532)。另一声学检测器(522)可操作以检测由周期性结构衍射的正第一声学衍射阶(530)，同时再次区别于镜面反射(第0阶532)。声学源和声学检测器可以是压电换能器。相对于周期性结构(538)和(540)布置投影声学辐射(526)的入射角和检测器(518)和(522)的位置，使得对负第一声学衍射阶(528)和正第一声学衍射阶(530)的检测区别于第0阶镜面反射(532)。
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公开(公告)号：CN114341738A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080059847.0
申请日：2020-07-31
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了测量结构的方法，以及相关联的量测装置和计算机程序。所述方法包括：获得与对第一衬底上的第一结构进行的测量相关的散射辐射的振幅分布；和获得与对参考衬底上的至少一个参考结构进行的参考测量相关的参考相位分布。所述至少一个参考结构是与所述第一结构不同但是在至少多个关键参数方面名义上相同的结构。所述方法还包括：根据所述振幅分布和参考相位分布确定用于描述所述第一结构的复值场。
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公开(公告)号：CN109643068B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201780051622.9
申请日：2017-08-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·潘迪
摘要： 公开了量测设备和方法。在一个设置中，量测设备包括使用测量辐射照射结构并且检测由结构散射的测量辐射的光学系统。光学系统包括将被散射的测量辐射聚焦至传感器上的透镜的阵列。色散元件将在多个非重叠波长频带的每一个中的经散射的测量辐射独占地引导至透镜的阵列的不同的相应透镜上。
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公开(公告)号：CN110709778A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880036683.2
申请日：2018-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 乔安科·拉文斯卑尔根 , N·潘迪 , 周子理 , A·E·A·科伦 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , B·O·夫艾格金格奥尔 , S·G·J·马西森
摘要： 公开了一种量测设备，其测量在衬底上形成的结构以确定感兴趣的参数。所述设备包括光学系统，所述光学系统配置成将辐射聚焦到所述结构上并将从所述结构反射之后的辐射引导到检测器上，其中：所述光学系统配置成使得所述检测器检测由来自光瞳平面场分布中的至少两个不同点的辐射之间的干涉产生的辐射强度，其中所述干涉使得检测到的辐射强度的包含与感兴趣的参数有关的信息的分量相对于所述检测到的辐射强度的一个或更多个其它分量被增强。
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公开(公告)号：CN108139696A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680060628.8
申请日：2016-09-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·潘迪 , A·J·登鲍埃夫 , H·M·马尔德 , W·R·彭格斯 , 鲍拉斯·安东尼斯·安德里亚斯·特尤尼森
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 一种形貌测量系统包括：辐射源，配置为产生辐射束；空间编码光栅，配置成对辐射束进行图案化并由此提供空间编码辐射束；光学装置，配置为在衬底上的目标部位处形成空间编码光栅的图像；检测光学装置，配置成接收从衬底的目标部位反射的辐射并且在第二光栅处形成光栅图像的图像；以及检测器，配置成接收透过第二光栅的辐射并且产生输出信号。
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公开(公告)号：CN107924132A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201580046689.4
申请日：2015-08-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·J·登鲍埃夫 , S·G·J·玛斯吉森 , N·潘迪 , S·威特 , K·艾克玛
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 通过光刻过程在衬底(W)上形成量测目标。以空间相干辐射在不同的条件下照射包括一个或多个光栅结构的目标(T)。由所述目标区域衍射的辐射(650)与参考辐射(652)干涉，在图像检测器(623)处干涉形成干涉图案。捕获所述干涉图案的一个或多个图像。根据所捕获的图像和参考辐射的知识，计算检测器处的所收集的散射辐射的复数场。根据所述复数场，计算被每个光栅衍射的辐射的合成辐射量测图像(814、814’)。根据光栅衍射谱的相反部分的合成辐射量测图像(814、814’)，获得对所述光栅中的不对称度的量度。使用合适的目标，可以根据所量度的不对称度，计算光刻过程的重叠和其他性能参数。
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公开(公告)号：CN112639622B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN201980057917.6
申请日：2019-07-31
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956
摘要： 一种用于确定衬底上的结构的关注的特性的量测设备，所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源用于产生照射辐射；至少两个照射分支，所述至少两个照射分支用于照射所述衬底上的所述结构，所述照射分支被配置成从不同角度照射所述结构；以及辐射切换器，所述辐射切换器被配置成接收所述照射辐射并且将所述照射辐射的至少一部分转移至所述至少两个照射分支中的可选的一个照射分支。
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公开(公告)号：CN116635791A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180076569.4
申请日：2021-10-07
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 披露了一种暗场数字全息显微镜和相关联的量测方法，所述暗场数字全息显微镜被配置成确定结构的关注的特性。所述暗场数字全息显微镜包括照射分支，所述照射分支用于提供照射辐射以照射所述结构；检测装置，所述检测装置用于捕获由所述结构对所述照射辐射的衍射所产生的物体辐射；以及参考分支，所述参考分支用于提供与物体束干涉的参考辐射，以获得由所述照射辐射和所述参考辐射形成的干涉图案的图像。所述参考分支具有光学元件，所述光学元件能够操作以改变所述参考辐射的特性，以便减小和/或最小化所述暗场数字全息显微镜的视场内的所述图像在检测器平面处的对比度度量的变化。
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