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公开(公告)号：CN116783553A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180080481.X
申请日：2021-11-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , G·布瑞恩达尼托里 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·L·克莱因 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器，所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位，其中，所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底，并且其中所述至少一个多层压电致动器包括多个压电材料压电层，所述多个压电材料压电层与多个电极层交错以形成叠置层。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或用于检查和/或量测设备中。
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公开(公告)号：CN116507581A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202180079827.4
申请日：2021-11-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , 哈利勒·戈凯·叶根 , J·V·奥沃卡姆普 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·胡布里特 , A·L·克莱因 , G·布瑞恩达尼托里 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC分类号： B81B7/00
摘要： 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及针对所述多个反射镜中的每个反射镜，用于使所述反射镜移位的至少一个压电致动器，其中，所述至少一个压电致动器被连接至所述衬底。所述微反射镜阵列还包括将所述反射镜连接至所述至少一个压电致动器的一个或更多个导柱。也披露一种形成这种微反射镜阵列的方法。所述微反射镜阵列可以用于可编程照射器中。所述可编程照射器可以用于光刻设备和/或检查和/或量测设备中。
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公开(公告)号：CN114556167A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080071117.2
申请日：2020-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 约斯特·安德烈·克鲁格斯特 , A·尼基帕罗夫 , W·J·恩格伦 , 廉晋 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , 哈利勒·戈凯·叶根
摘要： 一种扩散器，所述扩散器被配置成接收和透射辐射。所述扩散器包括散射层(510)，所述散射层被配置成散射所接收的辐射，所述散射层(510)包括第一物质且具有在其中分布的多个空隙。所述第一物质可以是散射物质，或替代地，所述空隙中的至少一个空隙可以包含所述散射物质，并且所述第一物质具有与所述散射物质相比更低的折射率。
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公开(公告)号：CN116583764A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202180083939.7
申请日：2021-11-15
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·阿克布卢特 , L·R·S·哈斯帕拉夫 , N·潘迪 , T·W·范德伍德 , G·布瑞恩达尼托里 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , A·L·克莱因 , J·V·奥沃卡姆普 , 哈利勒·戈凯·叶根 , E·A·奥索里奥欧利弗罗斯
IPC分类号： G02B5/08
摘要： 一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个致动器，所述至少一个致动器用于使所述反射镜移位且所述至少一个致动器被连接至所述衬底；一个或更多个支柱，所述一个或更多个支柱将所述反射镜连接至所述至少一个致动器；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的热扩散器，所述热扩散器用于扩散来自所述反射镜的热，所述热扩散器包括散热件和将所述散热件连接至所述反射镜的导热柱，其中，所述散热件包括柔性隔膜，所述柔性隔膜允许所述导热柱在所述反射镜被移位时枢转，并且其中所述柔性隔膜包括中心部分和周边部分，所述中心部分被连接至所述导热柱且所述中心部分具有大于所述周边部分的厚度的厚度。
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公开(公告)号：CN114286965A
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN202080059811.2
申请日：2020-08-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·尼基帕罗夫 , S·伯恩特松 , V·Y·班尼恩 , A·多尔戈夫 , 因奇·唐梅兹诺扬 , Z·S·豪厄林 , A·W·诺藤布姆 , M·A·范德柯克霍夫 , T·W·范德伍德 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , D·F·弗莱斯 , V·沃罗尼纳 , 哈利勒·戈凯·叶根
摘要： 提供了一种用于光刻设备的防护膜隔膜，所述隔膜包括未被覆盖的碳纳米管。还提供一种再生防护膜隔膜的方法，所述方法包括分解前体化合物，并且将至少一些分解产物沉积到防护膜隔膜上。还提供一种降低防护膜隔膜的蚀刻速率的方法，所述方法包括在防护膜隔膜的区域中提供电场以将来自防护膜的离子重新导向，或提供加热元件以将来自防护膜的自由基脱附，优选地，其中，防护膜隔膜为碳纳米管式防护膜隔膜；以及还提供一种用于光刻设备的组件，所述组件包括邻近防护膜隔膜的偏压电极或者包括防护膜隔膜或者用于防护膜隔膜的加热装置。
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