本发明公开了一种用于碳化硅外延片的表面沉积装置，涉及沉积设备技术领域，解决不便于快速下料的技术问题，包括沉积箱，所述沉积箱内安装有放置台，所述沉积箱的顶部转动安装有盖板，所述盖板上安装有进气管，所述沉积箱上设置有下料组件和升降组件，所述下料组件包括刮板，所述沉积箱靠近盖板的一侧设置有往复单元，所述刮板通过往复单元安装在沉积箱上，所述沉积箱的一侧固定安装有下料架，所述下料架转动安装有传送带，所述沉积箱靠近传送带的一侧固定安装有接料板，所述传送带上固定安装有多个限位条，所述下料架上固定安装有第二电机；有利于缩短碳化硅外延片的生产周期，有利于提高装置的工作效率。