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公开(公告)号：CN118665058A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410742092.4
申请日：2024-06-07
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
IPC分类号： B41M5/00
摘要： 本发明公开了基于字符喷印全自动生产线的微滴喷射方法及系统，本发明涉及字符喷印技术领域，解决了因未考虑喷射成品的内部构造，会导致在喷射过程中，部分区域过厚，部分区域过浅的情况出现的问题，本发明通过对待喷件进行相关定位，来进行方向确认，后续基于所确认的方向进行微滴喷射，完成喷印，确定喷印效果；针对于完喷件的相关厚度区，采用区域重合分析的方式，来确定相关的最大影响区，针对于最大影响区，进行方差确认，基于所确认的不同方差情况，来确定属于本最大影响区的外围区域，后续再从外围区域中选定流失区，基于流失区与最大影响区之间的数值比对结果，来确定其相关区域的喷射速率，最终进行相关调整，达到更好的喷印效果。
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公开(公告)号：CN118621437A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410941315.X
申请日：2024-07-15
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种碳化硅气相外延室，涉及半导体技术领域，旨在解决碳化硅气相外延室内壁附着颗粒物导致外延生长效果差的技术问题，包括气相基座，本发明通过在气相基座上设置滑移机构，在滑移机构上设置外延生长机构，将外延生长机构设置为螺旋状的第一反应壳体及第二反应壳体，使得壳体通过合离机构与滑移机构实现合并构成筒形生长腔用于碳化硅外延生长状态，旋离形成分离的两个反应壳体构成生长腔内壁清理状态，本发明通过螺旋分离的设计，生长腔可以轻松拆分为两部分，使得内壁的清理工作变得简单快捷，减少内壁附着的颗粒物杂质对外延层生长过程的影响，从而提高外延层的纯度和质量，同时减少清理难度，提高设备维护的效率。
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公开(公告)号：CN117222132B
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311477227.0
申请日：2023-11-08
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及电路板加工技术领域，具体公开了一种FPC板制造用FPC板整平设备，包括存储有锡液的锡炉以及安装在锡炉上的支撑架，还包括：夹持框，通过驱动件滑动连接在支撑架上，其用于安装第一夹持机构以及第二夹持机构；第一夹持机构以及第二夹持机构，其用于对FPC板不同位置进行夹持；切换组件，其安装在锡炉内部，以实现第一夹持机构与第二夹持机构之间的切换，夹持框带动第一夹持机构夹持FPC板在锡炉内部滑动，在FPC板进入到锡炉内部后，锡液会率先与第一夹持机构不接触的位置进行接触，第一夹持机构与FPC板位置抵接处展开，便能够实现该部位与锡液接触，进行镀锡作业，便可以实现整个FPC板的进行镀锡作业，提高整个FPC板镀锡质量。
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公开(公告)号：CN117222132A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202311477227.0
申请日：2023-11-08
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及电路板加工技术领域，具体公开了一种FPC板制造用FPC板整平设备，包括存储有锡液的锡炉以及安装在锡炉上的支撑架，还包括：夹持框，通过驱动件滑动连接在支撑架上，其用于安装第一夹持机构以及第二夹持机构；第一夹持机构以及第二夹持机构，其用于对FPC板不同位置进行夹持；切换组件，其安装在锡炉内部，以实现第一夹持机构与第二夹持机构之间的切换，夹持框带动第一夹持机构夹持FPC板在锡炉内部滑动，在FPC板进入到锡炉内部后，锡液会率先与第一夹持机构不接触的位置进行接触，第一夹持机构与FPC板位置抵接处展开，便能够实现该部位与锡液接触，进行镀锡作业，便可以实现整个FPC板的进行镀锡作业，提高整个FPC板镀锡质量。
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公开(公告)号：CN117156708A
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202311418771.8
申请日：2023-10-30
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
IPC分类号： H05K3/28
摘要： 本发明公开了PCB加工生产技术领域的一种覆铜板铜箔在阻焊喷印前的表面处理设备，包括处理槽，处理槽底部连通有多个处理筒，处理槽内安装有密封板和导电板，导电板位于密封板上方，密封板底部均匀固定连接有多个下垂筒，导电板底部均匀安装有多个极棒，极棒穿过下垂筒位于处理筒内，处理筒内设有底部塞，底部塞顶部两侧固定连接有侧支杆，侧支杆顶端共同连接有推环，推环顶部两侧有滑杆，滑杆穿过下垂筒且顶端共同固定连接有同步板，同步板位于密封板顶部且二者之间安装有伸缩缸，本发明可满足粗化要求，更方便、快速和精确地控制处理区域改变其表面能，使得表面能均匀，提高打印线条的均匀性，增强油墨附着力。
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公开(公告)号：CN115652280B
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202211265429.4
申请日：2022-10-17
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
IPC分类号： C23C16/44
摘要： 本发明公开了一种高温腔室对接装置，涉及对接装置技术领域，解决了高温反应箱内对接后冷却时易导致热气上浮使得开盖存在热气涌出的问题，包括反应箱，反应箱内部安装有载台，且反应箱的两侧均固定有对接管，还包括密封组件和对接壳，对接管内设有通孔，本发明通过在反应箱的两侧增设对接管及内部的密封组件，在反应箱内部进行化学气相沉积操作时，能够保证反应箱内部的密封性，在基板完成薄膜沉积后，通过设计的对接壳及内部的调节机构，实现与密封组件的对接，能够将反应箱内部的热气泄压排出，并且通过转向组件和L型管，能够对顶部的热气进行优先排出和降温，使得人员在打开端盖时，能够避免高温气体的涌出。
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公开(公告)号：CN115652418B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202211265499.X
申请日：2022-10-17
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种碳化硅外延化学气相沉积系统高温水循环冷却机构，涉及水循环冷却技术领域，解决了化学气相沉积反应箱内冷却效率低的问题，包括安装于反应箱内壁的四个石墨管，石墨管为弯曲形状，且两端均固定贯穿反应箱底部，滑动插接于反应箱底部的支撑管，支撑管的顶部固定载台，且支撑管的外侧安装有与反应箱底部内壁固定的加热板，本发明通过优化现有反应箱，在其内壁安装石墨管，并在其底部设计流速调节装置能够对其内部气压进行调节，能够缓冲冷却水进入后蒸发产生的较大的气压，同时配合转动组件带动缓冲管内活塞板的主动移动，从而加速对石墨管内部水的流速提高水循环降温的效果。
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公开(公告)号：CN117023228A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311307352.7
申请日：2023-10-10
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
IPC分类号： B65H19/18
摘要： 本发明公开了一种卷对卷FPC板高速喷印用收卷结构，属于卷对卷收卷领域，包括放卷辊和收卷辊，以及分布在放卷辊收卷辊之间的拉辊、喷印部分以及多组导辊；动辊能够上下运动，当动辊向上移动时能够配合定辊增加经过收卷结构的卷材长度；弹性滑动设置在机架上的前对辊和后对辊，所述前对辊和后对辊的辊体之间均通过同步组件连接，安装轴，所述安装轴转动设置于位于前对辊上方的机架上，所述安装轴上固设有连接架，所述连接架下端转动设置有探辊；本发明的收卷结构以直线驱动件为发起点，后前对辊依次夹持卷材，实现快速收卷完待更换放卷辊的卷材，且使卷材的末端处于一个时间段的静止状态，方便配合人工或自动化设备实施粘接换料工作。
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公开(公告)号：CN114959888B
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202111035359.9
申请日：2021-09-06
申请人： 江苏汉印机电科技股份有限公司
摘要： 本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种SiC外延薄膜的生产工艺，采用现有的四氢化硅‑丙烷‑氢气生长体系，步骤包括衬底固定、原位刻蚀、外延薄膜生长、第一阶段冷却、第二阶段冷却、第三阶段冷却，通过碳化硅外延薄膜沉积设备进行碳化硅衬底的固定、刻蚀、冷却，控制氢气、碳源、硅源的流量，结合三个阶段的冷却，氢气流、氩气流吹扫配合冷却水冷却，利于碳化硅衬底外部沟槽内废料的清除，冷却的过程中没有空气进入，利于外延薄膜层稳定、高质量的生长，降低了外延薄膜的表面缺陷密度，经检测制备得到的SiC外延片缺陷数量≤1/cm2，良率≥90%，厚度均匀性
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