发明授权
- 专利标题: 光栅耦合器及其制备方法
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申请号: CN202311107119.4申请日: 2023-08-30
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公开(公告)号: CN116859521B公开(公告)日: 2024-01-09
- 发明人: 胡辰 , 王震 , 王敬好 , 张欢 , 李佳 , 尹坤 , 吉晨
- 申请人: 之江实验室
- 申请人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人: 之江实验室
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市余杭区中泰街道科创大道之江实验室
- 代理机构: 北京博思佳知识产权代理有限公司
- 代理商 董晓盈
- 主分类号: G02B6/293
- IPC分类号: G02B6/293 ; G02B6/34
摘要:
本申请提供一种光栅耦合器及其制备方法。该光栅耦合器包括硅基衬底、形成于硅基衬底上的第一反射层、形成于第一反射层上的下埋层、形成于下埋层上的波导层、形成于波导层上的上包层、以及形成于上包层上的第二反射层,波导层包括多个二维光栅,多个二维光栅沿着光路传播路径方向设置。其中,沿着光路传播路径方向,从一个二维光栅进入的入射光中的部分光透过该二维光栅后会在第一反射层和第二反射层的反射作用下进入到下一个二维光栅。本申请能够同时兼顾对偏振的不敏感性以及高耦合效率。
公开/授权文献
- CN116859521A 光栅耦合器及其制备方法 公开/授权日:2023-10-10