发明公开
- 专利标题: 有机聚硅氧烷和含有其的化妆料
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申请号: CN202280014205.8申请日: 2022-02-02
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公开(公告)号: CN116917380A公开(公告)日: 2023-10-20
- 发明人: 今井太郎 , 宫内大 , 小西将幸
- 申请人: 信越化学工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人: 信越化学工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 杜丽利
- 优先权: 2021-019864 20210210 JP
- 国际申请: PCT/JP2022/003918 2022.02.02
- 国际公布: WO2022/172816 JA 2022.08.18
- 进入国家日期: 2023-08-09
- 主分类号: C08G77/14
- IPC分类号: C08G77/14
摘要:
在具有长链烷基、甘油基和分支链的有机硅基的、烷基‑甘油共改性分支状有机聚硅氧烷(在有机硅主链中有机硅链和烷基链分支的聚甘油改性有机硅)中限定了具有长链烷基的硅氧烷单元、具有甘油基的硅氧烷单元、具有分支链的有机硅基的硅氧烷单元的比例、有机聚硅氧烷的链长、硅氧烷单元的比率、长链烷基量、甘油基量的有机硅氧烷在含有粉体的组合物中配混的情况下分散性和分散稳定性良好,在化妆料中配混的情况下,即使含有油溶性紫外线吸收剂,也得到历时稳定性优异、同时铺展、肌肤亲和性良好的化妆料。