光子集成电路芯片及其制造方法
摘要:
本发明涉及半导体领域,其提供了一种光子集成电路芯片及其制造方法,所述方法包括:提供光子集成结构;提供第一衬底,所述第一衬底包括凹槽;将所述光子集成结构与所述第一衬底键合;去除所述光子集成结构的一部分,以形成光耦合端,所光耦合端使得光能够从光子集成电路的侧面耦合进入光子集成电路芯片;其中,所述光子集成结构的所述光耦合端所在的侧面与所述第一衬底的所述凹槽对应。其能够优化光子集成电路芯片的制造工艺以及光耦合方式。
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