发明公开
- 专利标题: 一种具有陷阱层的IGBT版图结构
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申请号: CN202311122045.1申请日: 2023-08-31
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公开(公告)号: CN117219664A公开(公告)日: 2023-12-12
- 发明人: 李泽宏 , 朱基弦 , 冯敬成 , 赵一尚 , 杨洋 , 王彤阳
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 成都点睛专利代理事务所
- 代理商 敖欢
- 主分类号: H01L29/739
- IPC分类号: H01L29/739 ; H01L27/02
摘要:
本发明提供一种具有陷阱层的IGBT版图结构,相较于传统版图设计,该方案通过陷阱注入的方式增加了背面有陷阱层的P型集电极区域,从而使RC‑IGBT区域面积占比增加,RC‑IGBT区域包括背面无陷阱层的P型集电极区域和背面N型集电极区域,同时也可以缩小背面N型集电极区域的间隔距离,加快器件关断过程中的电子抽取速度,提高器件的功率密度和电流分布均匀性。
IPC分类: