发明公开
- 专利标题: 过填充双向标记的强度不平衡校准
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申请号: CN202280040650.1申请日: 2022-05-24
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公开(公告)号: CN117425859A公开(公告)日: 2024-01-19
- 发明人: 程锐 , J·亚当斯 , F·G·C·比基恩 , E·B·凯蒂 , I·M·P·阿蒂斯
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王益
- 优先权: 63/208,420 2021.06.08 US
- 国际申请: PCT/EP2022/064102 2022.05.24
- 国际公布: WO2022/258371 EN 2022.12.15
- 进入国家日期: 2023-12-06
- 主分类号: G03F9/00
- IPC分类号: G03F9/00
摘要:
提供了用于校正被设置在衬底上的对准标记的检测位置并且使用经校正的数据对准所述衬底以准确地曝光所述衬底上的图案的系统、设备和方法。示例方法可以包括接收测量信号,所述测量信号包括与从具有不同定向的第一对准目标和第二对准目标衍射的第一衍射光束和第二衍射光束相对应的组合强度信号。示例方法还可以包括使用模板拟合所述组合强度信号以确定权重值,和基于所述模板和权重值来确定与所述第一衍射光束和第二衍射光束相对应的第一强度子信号和第二强度子信号。所述方法还可以包括基于所述第一强度子信号和第二强度子信号来确定第一强度不平衡信号和第二强度不平衡信号,以及基于所述第一强度不平衡信号和第二强度不平衡信号来确定对所述测量信号的校正集。