本发明涉及光场成像的技术领域，具体提供基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统，方法包括：获取光场原始图像；采用#imgabs0#光场参数化，#imgabs1#为角坐标，#imgabs2#为空间坐标，输入光场#imgabs3#中的每个像素并基于候选深度标签#imgabs4#重新映射到剪切光场#imgabs5#；根据剪切光场，判断遮挡类型；若遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图；采用多种滤波策略，对初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。因此，本发明基于场景立体模型得到的遮挡图用于遮挡检测，以提高遮挡检测的精确度；提升算法对噪声和遮挡的适应能力，提高了光场深度估计的精度。