本发明提供了一种干式抛光装置，包括底座、支架、滑动安装板、平移驱动部、旋转支撑部、承载台、抛光轴及干抛轮，其中：平移驱动部设置在底座上；滑动安装板滑动连接在底座上并与平移驱动部的驱动端连接，平移驱动部用于驱动滑动安装板平移；旋转支撑部安装在滑动安装板上，承载台以水平状态设置在旋转支撑部上，承载台用于承载晶圆，旋转支撑部用于驱动承载台旋转；支架设置在底座上，抛光轴的上端安装在支架上，干抛轮连接在抛光轴的下端并位于承载台的上方，抛光轴用于带动干抛轮升降及旋转，使得干抛轮压紧在承载台上的晶圆上，以及对晶圆实施抛光。本申提升了干抛轮对晶圆的抛光均匀度，最终提升了所获得的晶圆抛光面的光滑度。