本发明公开了基于氢键的光聚合有机硅自修复抗菌涂层及构建方法，涉及抗菌涂层涂料技术领域，其技术要点为：首先合成异氰酸酯封端的聚二甲基硅氧烷，向结构中引入脲基氢键，再利用异氰酸酯基团和羟基的进一步反应合成具有光固化活性的丙烯酰氧基封端的聚二甲基硅氧烷，将氢键和丙烯酰氧基引入到有机硅结构中。以三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)为交联剂，基于自由基聚合机理在紫外光作用下引发丙烯酰氧基自由基聚合反应，形成共价交联网络结构。利用交联氢键的相互作用，赋予了体系可修复的能力；并通过控制光固化反应条件、聚合程度和交联剂含量对材料机械性能、自修复性能等进行调控优化，并对涂层的抗菌性进行探究。