- 专利标题: 具有埋入式电源轨的半导体结构及其制造方法
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申请号: CN202311595428.0申请日: 2023-11-24
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公开(公告)号: CN117613000A公开(公告)日: 2024-02-27
- 发明人: 胡胜 , 叶子露 , 孙鹏 , 周俊
- 申请人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
- 专利权人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
- 当前专利权人: 武汉新芯集成电路股份有限公司
- 当前专利权人地址: 430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 张亚静
- 主分类号: H01L21/768
- IPC分类号: H01L21/768 ; H01L21/48 ; H01L23/538 ; H01L23/498
摘要:
本发明提供了一种具有埋入式电源轨的半导体结构及其制造方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有相对的第一表面和第二表面;在所述半导体衬底中形成第一隔离结构;在所述半导体衬底中形成器件结构;形成第一接触结构和第二接触结构,所述第一接触结构贯穿所述第一隔离结构,所述第二接触结构和所述器件结构电连接;在所述半导体衬底的第一表面侧形成信号网络层,所述信号网络层和所述第一接触结构以及所述第二接触结构电连接;在所述半导体衬底中形成埋入式电源轨,所述埋入式电源轨和所述第一接触结构电连接;以及,在所述半导体衬底的第二表面侧形成电力输送网络层,所述电力输送网络层和所述埋入式电源轨电连接。
公开/授权文献
- CN117613000B 具有埋入式电源轨的半导体结构及其制造方法 公开/授权日:2024-10-18
IPC分类: