发明公开
CN117637832A 氮化镓器件及其制造方法
审中-实审
- 专利标题: 氮化镓器件及其制造方法
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申请号: CN202210960844.5申请日: 2022-08-11
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公开(公告)号: CN117637832A公开(公告)日: 2024-03-01
- 发明人: 王鹏飞 , 林敏之 , 刘磊
- 申请人: 苏州东微半导体股份有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20栋515室
- 专利权人: 苏州东微半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 苏州东微半导体股份有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20栋515室
- 代理机构: 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 赵迎迎
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L27/07 ; H01L21/335
摘要:
本发明实施例提供的一种氮化镓器件,包括:衬底层;位于所述衬底层之上的氮基半导体层;在所述氮基半导体层上形成的源电极、漏电极以及位于所述源电极和所述漏电极之间的栅结构,所述栅结构包括:钝化层;位于所述钝化层之上的浮栅,所述浮栅向所述源电极的一侧延伸至所述氮基半导体层之上并与所述氮基半导体层接触形成p‑n结二极管;位于所述浮栅之上的控制栅,所述控制栅向所述源电极的一侧延伸至所述氮基半导体层之上,所述控制栅通过栅介质层与所述浮栅和所述氮基半导体层隔离。
IPC分类: