发明公开
CN117727803A 半导体装置
审中-实审
- 专利标题: 半导体装置
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申请号: CN202211100417.6申请日: 2022-09-09
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公开(公告)号: CN117727803A公开(公告)日: 2024-03-19
- 发明人: 罗宗仁 , 杨晓莹 , 刘兴潮 , 陈庆钟
- 申请人: 世界先进积体电路股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学园区
- 专利权人: 世界先进积体电路股份有限公司
- 当前专利权人: 世界先进积体电路股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学园区
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 郝博; 薛平
- 主分类号: H01L29/872
- IPC分类号: H01L29/872 ; H01L29/06
摘要:
本发明实施例提供半导体装置。半导体装置包括半导体基板、第一深阱、至少两个第二阱、多个隔离结构以及注入区。第一深阱设置于半导体基板中,其中第一深阱具有第一导电类型。至少两个第二阱设置于第一深阱上,其中第二阱具有第二导电类型。多个隔离结构覆盖部分第一深阱,且围绕至少部分第二阱。注入区位于半导体基板顶面,其中注入区具有不连续部分,不连续部分与第一深阱部分重叠。
IPC分类: