发明公开
- 专利标题: 石墨产品的膜层制备方法
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申请号: CN202410137596.3申请日: 2024-01-31
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公开(公告)号: CN117737686A公开(公告)日: 2024-03-22
- 发明人: 廖家豪 , 罗辉雄 , 唐植荔 , 柴攀 , 万强
- 申请人: 湖南德智新材料有限公司
- 申请人地址: 湖南省株洲市天元区金马路156号湖南德智半导体产业园1号厂房
- 专利权人: 湖南德智新材料有限公司
- 当前专利权人: 湖南德智新材料有限公司
- 当前专利权人地址: 湖南省株洲市天元区金马路156号湖南德智半导体产业园1号厂房
- 代理机构: 北京布瑞知识产权代理有限公司
- 代理商 宗广静
- 主分类号: C23C16/02
- IPC分类号: C23C16/02 ; C23C16/04 ; C23C16/56 ; C23C16/52 ; C04B41/81
摘要:
本申请涉及气相沉积技术领域,具体涉及一种石墨产品的膜层制备方法,解决了在气相沉积过程中,较高的温度会导致石墨的晶格结构发生变化,进而导致石墨产品发生变形的问题。石墨产品的膜层制备方法包括:制备第一石墨产品,所述第一石墨产品具有上表面和下表面;在所述第一石墨产品的上表面制备应力释放槽,得到第二石墨产品;对所述第二石墨产品进行膜层沉积,得到第三石墨产品;对所述第三石墨产品的上表面进行第二材料去除处理,得到第四石墨产品,其中,所述第四石墨产品的上表面不具有所述应力释放槽。通过在第一石墨产品的上表面制备应力释放槽,可以在膜层沉积的过程中,减少应力集中,从而减小第二石墨产品在膜层沉积过程的形变。
公开/授权文献
- CN117737686B 石墨产品的膜层制备方法 公开/授权日:2024-07-12
IPC分类: