发明公开
CN117750756A 半导体装置
审中-实审
摘要:
本发明的实施方式的半导体装置具备:第1配线(51),设置于第1层(L1),于第1方向延伸;第2配线(52),设置在位于第1层的上层侧的第2层(L2),于第1方向延伸;第1半导体层(31a),不贯通第2配线,贯通第1配线并于与第1方向交叉的第2方向延伸;第2半导体层(31b),不贯通第1配线,贯通第2配线并于第2方向延伸;第1绝缘层(32a),设置于第1配线与第1半导体层之间;第2绝缘层(32b),设置于第2配线与第2半导体层之间;第1电容器(40a),电连接于第1半导体层的第1端部;及第2电容器(40b),电连接于第2半导体层的第1端部。