发明公开
- 专利标题: 一种自聚集生长单分散HgTe量子点的合成方法
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申请号: CN202410009479.9申请日: 2024-01-03
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公开(公告)号: CN117776121A公开(公告)日: 2024-03-29
- 发明人: 太惠玲 , 卜一辰 , 段再华 , 袁震 , 蒋亚东
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 电子科技大学专利中心
- 代理商 冯柳
- 主分类号: C01B19/04
- IPC分类号: C01B19/04 ; C09K11/89 ; B82Y20/00 ; B82Y40/00
摘要:
本发明提供一种自聚集生长单分散HgTe量子点的合成方法,属于短波红外光电材料技术领域,具体为:制备TOPTe前驱体溶液和Hg前驱体溶液,将TOPTe前驱体溶液注入Hg前驱体溶液中,35~50℃搅拌8~10min,得到HgTe量子点籽晶溶液;对油胺溶液进行脱气处理,将HgTe量子点籽晶溶液注入油胺溶液,70~90℃下自聚集生长3~5min,加入淬灭剂,冷却得到待过滤HgTe量子点溶液,采用反溶剂离心清洗多次,干燥得到自聚集生长单分散HgTe量子点。本发明所得HgTe量子点的形状、尺寸均匀性高,可以实现1400~2500nm短波光吸收,具有尺寸可控、低成本的优势。