Invention Publication
- Patent Title: 一种基于二维器件组成的超薄短通道隧穿晶闸管结构
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Application No.: CN202311831874.7Application Date: 2023-12-28
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Publication No.: CN117794257APublication Date: 2024-03-29
- Inventor: 史书怀 , 吕中宾 , 杜君莉 , 鲁思宇 , 夏大伟 , 何晓宇 , 张朝峰 , 丁国君 , 姚伟 , 王森 , 张铮
- Applicant: 国网河南省电力公司电力科学研究院 , 北京科技大学 , 国网河南省电力公司
- Applicant Address: 河南省郑州市二七区嵩山南路85号; ;
- Assignee: 国网河南省电力公司电力科学研究院,北京科技大学,国网河南省电力公司
- Current Assignee: 国网河南省电力公司电力科学研究院,北京科技大学,国网河南省电力公司
- Current Assignee Address: 河南省郑州市二七区嵩山南路85号; ;
- Agency: 郑州知己知识产权代理有限公司
- Agent 季发军
- Main IPC: H10K10/43
- IPC: H10K10/43 ; H10K85/20

Abstract:
本发明公开了一种基于二维器件组成的超薄短通道隧穿晶闸管结构,属于金属‑半导体技术领域。包括:衬底层结构、半导体模块、绝缘介质层模块、电极模块以及顶层结构;半导体模块位于衬底层结构的上方,且中间有间隙;绝缘介质层模块位于半导体结构的上方的一端;电极模块位于半导体结构的的上方的另一端,且不与绝缘介质层模块连接;顶层结构位于绝缘介质层模块上方;半导体模块采用二维半导体材料;绝缘介质层模块采用电介质材料;电极模块采用二维半金属电极材料和传统金属电极材料;二维半金属电极材料面内原子通过共价键结合,层间采用范德华堆叠。本发明中有助于基于二维半导体的晶闸管结构设计和优化,扩展新型半导体材料应用。
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